7-нм EUV-техпроцесс Samsung обеспечит удвоенную энергоэффективность - «Новости сети»
На днях Samsung подтвердила планы использования сканеров EUV для выпуска DRAM. А во время конференции VLSI раскрыла подробности о своей 7-нм технологии, основанной на EUV. Новая литография предлагает широкий спектр преимуществ для чипов компании, которые, как ожидалось, могут появиться уже в
22
июн